保護(hù)基團(tuán)在合成有機(jī)化學(xué)領(lǐng)域,特別是在復(fù)雜生物活性分子的全合成中具有不可估量的重要性。 理想的保護(hù)基團(tuán)應(yīng)具有兩個(gè)特性:(1) 保護(hù)敏感官能團(tuán)在隨后的母體分子修飾過程中免受不希望的反應(yīng), (2) 以高產(chǎn)率和選擇性安裝和去除它。 光裂解是官能團(tuán)去保護(hù)的理想策略,因?yàn)樗ǔEc更傳統(tǒng)的熱或酸堿型去保護(hù)策略正交。
2022-03-01
熱、電化學(xué)或相關(guān)策略來生成和使用危險(xiǎn)試劑和相關(guān)反應(yīng)性中間體
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